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浅析半导体废水处理的特点
发布时间：
2024-03-02
伴随着半导体废水处理技术的快速发展和消费需求的增加，半导体厂排出的含氟废水急剧增加，产生的络合离子种类增多。各工序所处理的废水各不相同，其中腐蚀基材废水以氢氟酸为主，排放量最大。为防止此类废水对环境和生态造成污染和破坏
伴随着半导体废水处理技术的快速发展和消费需求的增加，半导体厂排出的含氟废水急剧增加，产生的络合离子种类增多。各工序所处理的废水各不相同，其中腐蚀基材废水以氢氟酸为主，排放量最大。为防止此类废水对环境和生态造成污染和破坏，必须努力降低废水氟含量。
半导体厂的废水，种类很多，特别是含有机溶剂(用于脱脂和清洗衬底)或含氢氟酸(用于衬底腐蚀) 的氢氟酸废水，还含有各种化合物。尽管大多数的有机溶剂得到了回收，但有些仍然混入废水中。含氟废水中氟化物含量较高，而含氟废水中氟含量较低。所以，高、低氟浓度的废水可以分别处理，也可以混杂在一起处理。
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